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All I-Line Photoresist Bump Photoresist KrF Photoresist TSV Thick Photoresist BARC TARC Developer Etchant Promoter Rinsing Solution Spin On Carbon Hardmask CMP Wafering

全部 3 贴文

Developer

Photo 공정의 마지막 단계인 현상 공정에서 활용되는 물질로써, 노광된 영역과 노광되지 않은 영역을 선택적으로 제거하여 회로에 패턴을 형성하는 공정시 사용하는 물질입니다.
DE-Y250L

TMAH type developer for color filter resist
DV-7000D / DE-Y2200 / DV-400 / DV-400S

TMAH type developer

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