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Display
All
Transparent Photoresist
UV Imprint Resin
Stripper
LED
LCD
全部
5
贴文
标题
内容
名称
LCD
특정한 파장의 빛에 반응 및 특정한 선폭(Pattern)을 전사할 수 있게 하는 고분자 재료로 TFT- LCD 회로 소자 공정 중 노광(Lithography)공정에 사용되고 있습니다.
YMR-2100
Etch 공정 후 존재하는 불순물들을 제거하기 위하여 활용하는 물질입니다.
DV-2379LC
Photo 공정의 마지막 단계인 현상 공정에서 활용되는 물질로써, 노광 된 영역과 노광 되지 않은 영역을 선택적으로 제거하여 회로에 패턴을 형성하는 공정 시 사용하는 물질입니다.
LCR-Y110N / LCR-Y200A / CL-Y300A
Photoresist 조성물의 작용 기전은, 노광 공정에서 광원을 받은 광산 발생제에서 산이 형성되고 이 산이 Photoresist 수지의 산 촉매 반응을 일으킵니다. 이때 positive Photoresist 조성물은 탈 보호 반응이 일어나며, 이런 반응을 통해서 노광 된 부분과 노광이 안 된 부분의 현상액에 대한 용해도 차이를 갖게 하여 패턴을 형성하게 됩니다.
SCR-100
Photoresist 조성물의 작용 기전은, 노광 공정에서 광원을 받은 광산 발생제에서 산이 형성되고 이 산이 Photoresist 수지의 산 촉매 반응을 일으킵니다. 이때 positive Photoresist 조성물은 탈 보호 반응이 일어나며, 이런 반응을 통해서 노광 된 부분과 노광이 안 된 부분의 현상액에 대한 용해도 차이를 갖게 하여 패턴을 형성하게 됩니다.
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