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贴文
标题
内容
名称
I-线光刻胶
本公司针对365nm波长，制造胶片厚度为0.1um至6.0um的工程适用i-线光致抗蚀剂产品。i-线光致抗蚀剂产品系列中，正型光致抗蚀剂与负型光致抗蚀剂均可生产。
若您为开发项目，正寻找i-线光致抗蚀剂解决方案，可联系本公司，我们将提供有关产品系列的更加具体的数据。
YCIP-4000E
-目标：厚度3.5um (Res. 1.5um & 3.0um, 1:1)
-用途：注入层和金属层
YCIP-1700
-目标：厚度1.7um (Res. 500nm, 1:1)
-用途：注入层和蚀刻层／OLED器件
YCIP-1300
-目标：厚度1.3um (Res. 500nm, 1:1)
-用途：注入层和蚀刻层／OLED器件
YCIP-1100
-目标：厚度1.1um (Res. 500nm, 1:1)
-用途：注入层和蚀刻层／OLED器件
YCIN-2000/YCIN-6000
-目标：厚度2.0um ~ 6.0um（体模）
-用途：注入层和蚀刻层／OLED器件
YCIN-1000
-目标：厚度1.0um (Res. 500nm, 1:1)
-用途：注入层和蚀刻层／OLED器件-
YCIN-600
-目标：厚度6.0um (Res. 500nm, 1:1)
-用途： : 注入层
YCIN-350
-目标：厚度0.17um (Res. 500um, 1:1)
-用途：钝化光刻胶
YCIN-130
-目标：厚度0.1um (Res. 1.0um, 1:1)
-用途：钝化光刻胶
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