Semiconductor

본문바로가기

닫기

Semiconductor

BARC

(Bottom Anti Refective Coating)반도체 소자의 패턴 크기가 감소함에 따라 노광 공정이 진행되는 동안 반사율이 최소 1% 미만으로 유지되어야 균일한 패턴을 형성할 수 있으며, lithography를 이용한 패턴 형성 중 노광 시 막 하부층에 의한 빛 반사 방지 및 정제파 제거 용도의 흡광제와 이를 포함하는 유기 반사 방지막입니다.
YA-800

(Bottom Anti Refective Coating Materials)
-Target : Thickness 0.08um
-Purpose of use : ArF BARC
YA-600A

(Bottom Anti Refective Coating Materials)
-Target : Thickness 0.06um
-Purpose of use : Gapfill BARC
YA-400

(Bottom Anti Refective Coating Materials)
-Target : Thickness 0.04um
-Purpose of use : ArF BARC
YCB-240

(Bottom Anti Refective Coating Materials)
-Target : Thickness 0.024um
-Purpose of use : TSV package BARC – Ball grid array bumping process

이전10페이지

이전1페이지

1

다음1페이지

다음10페이지