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透明光刻胶
UV压印树脂
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贴文
标题
内容
名称
UV压印树脂
NIL (纳米压印技术)为高分子纳米结构的高通量模式化，提供价格低廉的光刻技术。
YNIL-HR
有机-无机杂化、耐热、易释放、透明
YNIL-M1 / M2 / M3
透明、易释放、杨氏模量（100~1000MPa）、
尺寸误差< 5%(可调收缩率 1~5% )、接触角(60°~90°)、
灵活且可弯曲
YNIL-R1 / R2 / R3
紫外光硬化、喷墨式、透明性、可调粘度、浸润性能强、与晶圆和聚合物基板的强粘附力、残留层：低于50nm
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