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All 凹凸光刻胶 I-线光刻胶 KrF光致抗蚀剂 TSV厚膜光阻 BARC TARC 显影剂腐蚀剂 Promoter 冲洗溶液旋装式碳膜 CMP Wafering

全部 5 贴文

冲洗溶液

Photo工程时使用的物质，显影剂工程后，利用D.I. water清洗时，为防止模式受损而使用的物质。
ALS-Y957

通过减少蚀刻后的倾盖来提高工艺裕度
ERAC / AYCER series

-目标: LER的防塌与改进
-用途:EUV光刻胶
PLECT-100 / PLECT-200

-目标: LER的防塌与改进
-用途:ArF光刻胶
ATL-1008

-目标: LER的防塌与改进
-用途:KrF光刻胶

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