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贴文
标题
内容
名称
YKN-510
-目标：厚度0.54um (Res. 180nm, 250nm)
用途：注入层和蚀刻层-
YCKP-1654
-目标：厚度0.54um (Res. 180nm, 250nm)
-用途：注入层和蚀刻层
YKP-503
-目标：厚度0.54um (Res. 180nm, 250nm)
-用途：注入层和蚀刻层
YCIP-4000E
-目标：厚度3.5um (Res. 1.5um & 3.0um, 1:1)
-用途：注入层和金属层
YCIP-1700
-目标：厚度1.7um (Res. 500nm, 1:1)
-用途：注入层和蚀刻层／OLED器件
YCIP-1300
-目标：厚度1.3um (Res. 500nm, 1:1)
-用途：注入层和蚀刻层／OLED器件
YCIP-1100
-目标：厚度1.1um (Res. 500nm, 1:1)
-用途：注入层和蚀刻层／OLED器件
YCIN-2000/YCIN-6000
-目标：厚度2.0um ~ 6.0um（体模）
-用途：注入层和蚀刻层／OLED器件
YCIN-1000
-目标：厚度1.0um (Res. 500nm, 1:1)
-用途：注入层和蚀刻层／OLED器件-
YCIN-600
-目标：厚度6.0um (Res. 500nm, 1:1)
-用途： : 注入层
YCIN-350
-目标：厚度0.17um (Res. 500um, 1:1)
-用途：钝化光刻胶
YCIN-130
-目标：厚度0.1um (Res. 1.0um, 1:1)
-用途：钝化光刻胶
YBNP-S500
-目标 : 厚度50um (Res. 75um, 接触孔)
-用途 : 负凸点光刻胶
YPP-6000
-目标:厚度6.0um(Res. 5um, L/S 1:1)
-用途：正凸点光刻胶
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