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透明光刻胶
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贴文
标题
内容
名称
YPP-3002
光致抗蚀剂组成物的作用机制是在曝光工程中获光源的光散发生剂中形成酸，该酸引起光致抗蚀剂树脂的酸媒介反应。此时，正光致抗蚀剂组成物将引发脱保护反应，通过该反应产生曝光部分与未曝光部分的显影剂的溶解度差异，从而形成模式。
YGR-8100AL / YGR-8200AL
金属剥离器（单型）
YGR-4100AL
金属剥离器（批量）
YMR-1600 / YMR-1700
去除铝后腐蚀残留物的汽提塔
YNIL-HR
有机-无机杂化、耐热、易释放、透明
YNIL-M1 / M2 / M3
透明、易释放、杨氏模量（100~1000MPa）、
尺寸误差< 5%(可调收缩率 1~5% )、接触角(60°~90°)、
灵活且可弯曲
YNIL-R1 / R2 / R3
紫外光硬化、喷墨式、透明性、可调粘度、浸润性能强、与晶圆和聚合物基板的强粘附力、残留层：低于50nm
YTNP-2030
透明光刻胶
YTNP-2015
透明光刻胶
YTNP-2005
透明光刻胶
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