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Semiconductor
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I-Line Photoresist
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TARC
Developer
Etchant
Promoter
Rinsing Solution
Spin On Carbon Hardmask
CMP
Wafering
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2
hit(s)
Subject
Contents
Name
TARC
(Top Anti Reflective Coating)반도체 소자의 패턴 크기가 감소함에 따라 노광 공정이 진행되는 동안 반사율이 최소 1% 미만으로 유지되어야 균일한 패턴을 형성할 수 있으며, lithography를 이용한 패턴 형성 중 노광 시 막 상부층에 반사 방지막 처리를 하여, Photoresist 막 내에서 반사광 및 난반사 발생 현상을 개선하기 위해 사용합니다.
YCTA-9047
-Environmentally safe; PFOS/PFOA issue free
-Low refractive index
-pH controllable
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