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Semiconductor
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I-Line Photoresist
Bump Photoresist
KrF Photoresist
TSV Thick Photoresist
BARC
TARC
Developer
Etchant
Promoter
Rinsing Solution
Spin On Carbon Hardmask
CMP
Wafering
총
3
건
제목
내용
이름
Developer
Photo 공정의 마지막 단계인 현상 공정에서 활용되는 물질로써, 노광된 영역과 노광되지 않은 영역을 선택적으로 제거하여 회로에 패턴을 형성하는 공정시 사용하는 물질입니다.
DE-Y250L
TMAH type developer for color filter resist
DV-7000D / DE-Y2200 / DV-400 / DV-400S
TMAH type developer
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