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Semiconductor
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Semiconductor
All
I-Line Photoresist
Bump Photoresist
KrF Photoresist
TSV Thick Photoresist
BARC
TARC
Developer
Etchant
Promoter
Rinsing Solution
Spin On Carbon Hardmask
CMP
Wafering
총
5
건
제목
내용
이름
Etchant
화학적 반응을 활용하여 인쇄회로 기판에 존재하는 불필요한 금속을 제거하기 위해 사용하는 물질입니다.
YMCA-M128
Word-line(Mo/TiN) recess wet-etch solution.
YMCA-W096
Word-line(W/TiN) recess wet-etch solution.
CL-Y200
Polysilicone etchant for Quartz tube
YSG-402E
SiGe etchant
1
